භෞතික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම (භෞතික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම, PVD) තාක්ෂණය යනු රික්ත තත්වයන් යටතේ භෞතික ක්රම භාවිතා කරමින් ද්රව්ය ප්රභවයක (ඝන හෝ ද්රව) මතුපිට වායුමය පරමාණු හෝ අණු බවට වාෂ්ප කිරීමට හෝ අර්ධ වශයෙන් අයන බවට අයනීකරණය කර අඩු පීඩන වායුවක් (හෝ ප්ලාස්මා) හරහා ගමන් කිරීමට භාවිතා කිරීමයි. ක්රියාවලිය, උපස්ථරයක මතුපිට විශේෂ ශ්රිතයක් සහිත තුනී පටලයක් තැන්පත් කිරීමේ තාක්ෂණයක් වන අතර භෞතික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම ප්රධාන මතුපිට ප්රතිකාර තාක්ෂණයන්ගෙන් එකකි. PVD (භෞතික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම) ආලේපන තාක්ෂණය ප්රධාන වශයෙන් කාණ්ඩ තුනකට බෙදා ඇත: රික්ත වාෂ්පීකරණ ආලේපනය, රික්තක ඉසින ආලේපනය සහ රික්ත අයන ආලේපනය.
අපගේ නිෂ්පාදන ප්රධාන වශයෙන් තාප වාෂ්පීකරණය සහ ඉසින ආලේපනය සඳහා භාවිතා වේ. වාෂ්ප තැන්පත් කිරීමේදී භාවිතා කරන නිෂ්පාදන අතර ටංස්ටන් නූල් වයර්, ටංස්ටන් බෝට්ටු, මොලිබ්ඩිනම් බෝට්ටු සහ ටැන්ටලම් බෝට්ටු ඇතුළත් වේ. ඉලෙක්ට්රෝන කදම්භ ආලේපනයේ භාවිතා කරන නිෂ්පාදන කැතෝඩ ටංස්ටන් වයර්, තඹ කබොල, ටංස්ටන් කබොල සහ මොලිබ්ඩිනම් සැකසුම් කොටස් වේ. ස්පුටරින් ආලේපනයේ භාවිතා කරන නිෂ්පාදන අතර ටයිටේනියම් ඉලක්ක, ක්රෝමියම් ඉලක්ක සහ ටයිටේනියම්-ඇලුමිනියම් ඉලක්ක ඇතුළත් වේ.
